離子源
OIS-GL
OIS-GL是(shi)一種用于(yu)基板清(qing)洗和離子輔助而(er)開發的低電壓大電流無(wu)柵網式(shi)離子源。 配備于(yu)Gener-1300及(ji)OTFC系列鍍膜(mo)機(ji)，可生產各種光(guang)學濾光(guang)片。
- 特征
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適用于基板清(qing)洗(xi)或塑料(liao)基板的鍍膜(mo)
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低(di)能量(liang)、高電流，照(zhao)射面(mian)積可達(da)到φ 1200mm 以(yi)上
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設計的冷卻方(fang)式，大大提(ti)高了穩定性
- 規格
- 型(xing)號 OIS-GL
- 尺(chi)寸(cun) φ163mm × 200mm (H)
- 放電電壓 50V - 300V
- 放電電流(max) 8A
- 氣體流量 5sccm - 50sccm（氬氣）10sccm - 100sccm（氬氣）
- 使用壓(ya)力 3.5 × 10-2 Pa 以下
- 水(shui)冷(leng)方式 Anode and beam unit
- 中和器 Tungsten (W) filament
