關于RPD系列
RPD-1000 (ITO/AlN)
RPD系(xi)列是高性能(neng)LED膜(mo)（ITO/AlN）低成(cheng)本生產可能(neng)的反應(ying)性等(deng)離子源鍍膜(mo)機。
- 特征
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通過反應性等離子源同時實現成(cheng)膜材料的蒸發及活性化
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通過能(neng)量(liang)鍍制(zhi)高品質的(de)結晶(jing)膜
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與常(chang)規蒸(zheng)鍍相較(jiao)，實現低溫、低成(cheng)本量產
- 規格
- 真(zhen)空室(shi) Ф1000mm×H 1165mm
- 基板架 Ф870 mm
- 基板架轉速 10～30rpm
- 晶振式(shi)膜厚計 6點式水晶傳(chuan)感器(qi)
- 蒸發源(yuan) 反應性等離(li)子源
- 性能
- 達(da)到壓(ya)力 1.0E-4 Pa 以(yi)下
- 排氣時間 20分以(yi)下（大氣壓～1.3×10-3 Pa以(yi)下）
- 工作條件
- 設備尺(chi)寸 約4000 mm (W) × 6000 mm (D)×2800 mm (H)
- 電源 3相＋G,200V±5%, 約75KVA
- 水流量 80升(sheng)/分以上
- 空氣(qi)壓(ya)力 0.5 MPa - 0.7 MPa
- 重量 約4000 kg
