關于SPUTTER系列

NSC-15型設(she)備(bei)是可(ke)用于批量(liang)生產光學薄膜的(de)濺射鍍膜機，采用金屬(shu)模式濺射技術(shu)并搭載高反應性等離子(zi)體源(yuan)。 另配備(bei)了上下(xia)片(pian)搬送系統(tong)，可(ke)實現高產量(liang)的(de)生產。

特征
可裝載(zai)4種(zhong)靶(ba)材
陰極可(ke)替(ti)換為其它(ta)部件
雙旋轉(zhuan)滾筒陰極可穩定放電
高反(fan)應等離子(zi)體源用于(yu)低吸收膜
自動上下片基(ji)板(ban)搬送系統
規格
真(zhen)空(kong)腔體(ti) 裝片室：304不銹鋼，寬500mm×深800 mm×高2890 mm
工藝室：304不銹鋼，直徑1650 mm×高1200 mm
基板夾具(ju) 可選13 – 22片(pian)
旋轉滾筒系統(tong)： 直(zhi)徑1500 mm, 滾筒式, 10 rpm - 100 rpm
反應源 ICP（電感耦合(he)等離子體）
濺射源 雙旋(xuan)轉陰極（可選(xuan)平(ping)面靶材(cai)）
真(zhen)空系統 粗抽泵，分子泵
性能
極限壓力 裝片室：10Pa
工藝室：≤5.0 × 10-4?Pa
抽氣速率 裝片室：≤20 分鐘 (從大氣到 1.0×10-1?Pa)
工藝室：≤40分鐘(從大氣到5.0×10-3?Pa)
基板加(jia)熱溫度(du) 可選150℃
工作條件
設備(bei)尺寸 5800 mm (寬(kuan)) × 7700 mm (深)×3200 mm (高)
電(dian)源 3相, 380V ± 10％、130kVA、50/60Hz
水(shui)流(liu)量(liang) ≥180升(sheng)/分鐘
空氣壓力 0.5 MPa - 0.7 MPa
重量 約13000 kg