關于Gener系列
Gener-1300
本裝置(zhi)是為減(jian)反射(she)光(guang)學(xue)(xue)薄(bo)膜的(de)大(da)批(pi)量生產而設(she)計制作(zuo)的(de)光(guang)學(xue)(xue)鍍膜機。
- 特征
- 采用了磁流體密封技術的中心旋轉式基板架,保證了薄膜產品的重(zhong)復性與均勻性
- 優化(hua)的(de)排氣特性和升溫能力使鍍(du)膜(mo)時(shi)間縮短
- 可(ke)以(yi)加(jia)裝(zhuang)用于對應高(gao)精度AR鍍(du)膜(mo)的多(duo)層膜(mo)用可(ke)靠的光控儀 (optional)
- 規格
- 真(zhen)空室 SUS304,Ф1300mm×1500mm(H)
- 基板(ban)架 4片式工作架(或(huo)Ф1200 mm)
- 基板架(jia)轉速 最大30rpm(可調)
- 晶振式膜厚計 XTC/3+6點式(shi)水晶(jing)傳感器(qi)
- 蒸發源 電子槍1臺
- 性能
- 極限真空 7.0 × 10-5 Pa 以下
- 抽氣速度 10分(大氣壓~3.0×10-3Pa)
- 基板最高加(jia)熱溫度 最高350℃
- 工作條件
- 安裝空間 約4500mm(W)×6000mm(D)×3200mm(H)
- 電力(li) 3相(xiang),200V,50/60Hz,約80KVA
- 水流量(liang) 100升/分以上
- 壓(ya)縮(suo)空氣壓(ya)力(li) 0.5-0.7MPa
- 重量 約5000kg