關于SPUTTER系列

OWLS-1800是專用(yong)(yong)于“半導體(ti)光(guang)學器件”的金屬(shu)模式濺射系統，適用(yong)(yong)于12英寸的晶圓。該濺射系統可以擴展應(ying)用(yong)(yong)范圍（同時雙(shuang)倍尺寸鍍膜(mo)，低(di)溫鍍膜(mo)等）

特征
適用于多種晶圓尺寸（12“，10”，8“，6”和4“）
真空晶圓搬運(yun)機械手快速清潔的轉(zhuan)移(yi)系統(tong)
3個(ge)雙旋轉圓柱(zhu)陰極(ji)
高反應性等離子體源(yuan)實現(xian)低吸收膜
其他(ta)模(mo)塊，例如(ru)光學厚度監(jian)控儀（可選）
適用于EFEM并(bing)符合(he)SEMI標準
規格
真空(kong)腔體 裝片室：寬820mm×高1455 mm×深740 mm
運送室：寬1070×高480×深1070mm
工藝室：寬2540×高745×深2285mm
基板夾具 10片（最大12英(ying)寸）
基板(ban)旋轉(zhuan)滾筒系統(tong) 直徑1800 mm×高48 mm, 滾(gun)筒式, 10 rpm-100 rpm（可調）
反應源 ICP（電感耦合等離子體）
濺射源(yuan) 雙旋(xuan)轉陰(yin)極（可選平面靶材）
真空(kong)系統(tong) 粗抽泵，分(fen)子泵，冷阱
性能
極限壓力 裝片室：10Pa
工藝室：≤5.0 × 10-4?Pa
抽氣速率(lv) 裝片室，運送室：5分鐘 (從大氣到 10Pa)
工藝室：≤40分鐘(從大氣到5.0×10-3??Pa)
工作條件
設備尺寸 6500 mm (寬) × 6000 mm (深)×3400 mm (高)
電源(yuan) 3相+G, 380V±5％、125kVA、50/60Hz
水流量 ≥195升/分鐘
空氣(qi)壓(ya)力 0.5 MPa - 0.7 MPa
總重量 約(yue)13500 kg