關于SPUTTER系列

NSC-15型(xing)設備是可(ke)(ke)用(yong)于批量(liang)(liang)生產(chan)(chan)光學薄膜(mo)的(de)濺射(she)鍍膜(mo)機，采(cai)用(yong)金屬(shu)模式濺射(she)技術并搭(da)載高反應性(xing)等離子體源(yuan)。 另(ling)配備了上下片(pian)搬(ban)送系統，可(ke)(ke)實現(xian)高產(chan)(chan)量(liang)(liang)的(de)生產(chan)(chan)。

特征
可裝載4種(zhong)靶材(cai)
陰極可替換為(wei)其它(ta)部件
雙旋轉滾筒陰極可穩(wen)定放電
高反(fan)應等離子體源用于低吸收膜
自(zi)動上下片基板(ban)搬送系統(tong)
規格
真空(kong)腔體 裝片室：304不銹鋼，寬500mm×深800 mm×高2890 mm
工藝室：304不銹鋼，直徑1650 mm×高1200 mm
基板夾(jia)具 可選13 – 22片
旋轉滾筒系(xi)統： 直徑1500 mm, 滾筒式, 10 rpm - 100 rpm
反應源 ICP（電感耦合等離子體）
濺(jian)射源 雙旋(xuan)轉陰極（可(ke)選平面靶材）
真空(kong)系(xi)統(tong) 粗抽泵，分子(zi)泵
性能
極限壓力 裝片室：10Pa
工藝室：≤5.0 × 10-4?Pa
抽氣(qi)速率 裝片室：≤20 分鐘 (從大氣到 1.0×10-1?Pa)
工藝室：≤40分鐘(從大氣到5.0×10-3?Pa)
基板加熱(re)溫度 可選150℃
工作條件
設(she)備尺寸(cun) 5800 mm (寬(kuan)) × 7700 mm (深(shen))×3200 mm (高)
電(dian)源 3相, 380V ± 10％、130kVA、50/60Hz
水流(liu)量 ≥180升(sheng)/分鐘
空氣壓力 0.5 MPa - 0.7 MPa
重量 約13000 kg